Welche Rolle spielt die Kältemaschine im Vakuumbeschichtungsprozess?
Apr 17, 2019| Welche Rolle spielt die Kältemaschine im Vakuumbeschichtungsprozess?
Das Arbeitsprinzip der Vakuumbeschichtung besteht darin, dass der Filmkörper verdampft und auf die Werkstückoberfläche fällt, um bei hoher Temperatur zu kristallisieren . Da die Luft beim Verdampfen von Membranmolekülen einen Widerstand erzeugt, der durch die Kollision von Kristallen verursacht wird, wird sie rau matt. Sie muss sich daher im Hochvakuum befinden, um den Kristall fein und hell zu machen. Wenn das Vakuum nicht hoch ist, verliert der Kristall seinen Glanz und seine Bindung Macht. Eine frühe Vakuumbeschichtung hängt von der Verdunstung natürlicher Streuung zusammen mit einem geringen Wirkungsgrad und geringem Glanz ab. Zusätzlich zu dem Mittelfrequenz-Magnetron-Sputtertarget werden nun die verdampfenden Moleküle des Filmkörpers beschleunigt, um das Targetmaterial unter Einwirkung eines elektrischen Feldes mit dem Magnetron-Target zu bombardieren, und eine große Anzahl von Targetatomen wird ausgesputtert, und die Auf dem Substrat werden neutrale Zielatome (oder -moleküle) abgeschieden, um einen Film zu bilden, der das Problem der Filmkörpersorte löst, die in der Vergangenheit nicht durch natürliche Verdampfung verarbeitet werden kann, wie z. B. Titan- und Zirkonplattierung.
Müssen Geräte wegen ihres Hochfrequenzstroms Kühlwasser nachfüllen. Wenn der Strom im Leiter fließt, entsteht ein Hauteffekt, und die Ladung sammelt sich im Oberflächenbereich des Leiters an, so dass sich der Leiter erwärmt. Daher wird das mittlere Lochrohr als Leiter verwendet und Wasser hinzugefügt, um es zu kühlen.
Warum Wasserkühlung? Magnetron-Sputtertargets erzeugen beim Abschuss hohe Temperaturen, die die Pistole deformieren, sodass sie einen Mantel zum Kühlen der Pistole hat. Gleichzeitig gibt es einen weiteren wichtigen Grund, warum Magnetron-Sputtern als eine der herausragenden Leistungen von z * in der Beschichtungstechnologie angesehen werden kann. Es hat eine hohe Sputterrate, einen geringen Anstieg der Substrattemperatur und eine gute Haftung auf Filmbasis.
Das allgemeine Prinzip des Magnetronsputterns und die transversale Ungleichmäßigkeit und Symmetrie des Magnetfelds werden diskutiert. Magnetron-Sputtern kann als eine der herausragenden Errungenschaften von z * in der Beschichtungstechnologie angesehen werden. Es zeichnet sich durch eine hohe Sputterrate, einen geringen Anstieg der Substrattemperatur, eine gute Haftung auf Filmbasis und eine stabile Geräteleistung aus.
Chiller ist eine Art Wasserkühlung, kann konstante Temperatur, konstanten Strom, konstanten Druck Kühlwasser Ausrüstung bieten. Sein Arbeitsprinzip ist es, eine bestimmte Menge Wasser in den Wassertank der Maschine zuerst zu injizieren, das Wasser durch das Kühlsystem zu kühlen Wenn Sie das Niedertemperatur-Kühlwasser über die Wasserpumpe in die Kühlanlage leiten, steigt die Temperatur, nachdem das Kühlwasser die Wärme entzogen hat, und fließt dann zum Wassertank zurück, um den Kühleffekt zu erzielen. Kühlwassertemperatur kann je nach Bedarf automatisch angepasst werden, bei längerer Nutzung kann Wasser gespart werden.
Die Kältemaschine kann die Temperatur der Vakuumbeschichtungsmaschine regeln, um die hohe Qualität der Beschichtungsteile sicherzustellen. Wenn es nicht für die Kältemaschine geeignet ist, kann die Vakuumbeschichtungsmaschine den Zweck einer hochpräzisen und hocheffizienten Temperaturregelung nicht erreichen, da die natürliche Temperatur die Wärmeabfuhr des Wassers und des Wasserturms zwangsläufig beeinflusst, und diese Art der Regelung ist sehr instabil.
Kaltwassermaschine hat völlig unabhängige Kälteanlage, nicht von Temperatur und Umwelt beeinflusst, die Wassertemperatur in 5 ℃ ~ 30 ℃ Bereich Einstellsteuerung, damit der Zweck der Temperaturregelung und hohe Präzision, hohe Effizienz, Kaltwassermaschine ist mit unabhängigen ausgestattet Wasserrecycling-System.
IKS PVD ( MF ) Mittelfrequenz ( Megnetron Sputtering Coating Machine ) Kontakt : iks.pvd@foxmail.com
