Der Fortschritt der Dampfabscheidungstechnologie
Dec 22, 2022| Der Fortschritt der Aufdampftechnologie lässt sich wie folgt zusammenfassen:
(1) Geräteentwicklung. Zum Beispiel große Geräte zur kontinuierlichen Elektronenstrahlverdampfung, verschiedene Formen von Magnetron-Sputtergeräten, neue Arc-Source-Ionenplattierungs- und HCD- und Multi-Arc-Komposit-Ionenplattierungsgeräte, verschiedene IBAD-Geräte und Plasma-Immersions-Ionenimplantationsgeräte (PIⅢI) usw.
(2) Prozessfortschritt. Dies äußert sich vor allem in der Zunahme der Folientypen und der Verbesserung der Folieneigenschaften. Beispielsweise wurden verschiedene hochleistungsfähige verschleißfeste, korrosionsbeständige, hochtemperaturkorrosionsbeständige Wärmedämmfolien, diamantartige und kubische Bornitridfolien sowie eine Vielzahl von Keramik-, Gradienten- und mehrschichtigen Verbundfolien hergestellt .
(3) Zusammensetzung der Methoden. Die fortschrittlichste Gasphasenabscheidungstechnologie ist die Kombination aus einzelner physikalischer Gasphasenabscheidung und chemischer Gasphasenabscheidung. Sie nutzen nicht nur eine Vielzahl neuer Heizquellen, sondern nutzen auch verschiedene chemische Reaktionen, hochfrequente elektromagnetische (Impuls, Radiofrequenz, Mikrowelle usw.) und Plasmaeffekte zur Aktivierung der abgelagerten Partikel. Zum Beispiel reaktive Verdampfung, reaktives Sputtern, Ionenstrahlsputtern, verschiedene plasmaerregte chemische Gasphasenabscheidung usw., es gibt weitere Verbundmethoden in IBAD- und PⅢ-Geräten. Durch die Einbringung des Laserstrahls können nicht nur Dampfbeschichtungen, sondern auch Verbundwerkstoffe auf unterschiedliche Weise hergestellt werden.
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