Der Hauptvorteil des Magnetron-Sputterverfahrens

Der Hauptvorteil des Magnetron-Sputterverfahrens besteht darin, dass das reaktive oder nichtreaktive Beschichtungsverfahren zur Abscheidung der Filmschicht dieser Materialien verwendet werden kann und dass die Filmzusammensetzung, die Filmdicke, die Gleichmäßigkeit der Filmdicke und die mechanischen Eigenschaften der Filmschicht angepasst werden können gut kontrolliert werden, daher stellen die auf dem Markt erhältlichen Beschichtungsfilme relativ hohe Anforderungen an die Filmschicht und fast alle verwenden dazu die Magnetron-Sputter-Beschichtungstechnologie.

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