Funktionsprinzip der Vakuumbeschichtung

Funktionsprinzip der Vakuumbeschichtung: Physikalische Gasphasenabscheidung (Physical Vapour Deposition, PVD) unter Vakuumbedingungen, dh physikalische Methode, Materialquelle, Feststoff- oder Flüssigkeitsoberflächenvergasung zu gasförmigen Atomen, Molekülen oder Teilionisationsionen und durch den Niederdruckgas- (oder Plasma-) Prozess weist die Abscheidung auf der Oberfläche der Matrix einige Besonderheiten der Dünnschichttechnologie auf.

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