Klassifizierung von Vakuumbeschichtungstechniken

Klassifizierung von Vakuumbeschichtungstechniken

Durch die Vakuumbeschichtungstechnologie wird ein Filmmaterial mit charakteristischen Eigenschaften auf der Oberfläche der Teile abgeschieden. Einige Partikel in der Filmschicht stammen aus Feststoffen, andere aus Gas. Die aus Feststoffen abgeleitete Technologie wird als physikalische Gasphasenabscheidung, kurz PVD, bezeichnet, und die aus Gas abgeleitete Technologie wird als chemische Gasphasenabscheidung, kurz CVD, bezeichnet. Die Tabellen 1 und 2 sind die Klassifizierungstabellen der beiden Beschichtungstechnologien.

Tabelle 1 Vakuumbeschichtungstechnologie für Festkörpermaterialien -- PVD

Tabelle 2 Vakuumbeschichtungstechnologie für gasförmiges Material Quelle -- CVD

Aus den beiden Tabellen sind folgende Merkmale ersichtlich: ① Bei der frühesten Vakuumverdampfungsplattierung und Heiß-CVD-Technologie gibt es keinen Entladungsprozess. Die Ankunft der Filmpartikel am Werkstück hängt von der Wärmeenergie der thermischen Verdampfung oder thermischen Reaktion ab. ② Die Entladungstechnologie entwickelt sich von der Glimmentladung zur Bogenentladung; (3) Aus der „Prozentsatz der Metallionisationsrate“ in der PVD-Tabelle geht hervor, dass die Metallionisationsrate der Lichtbogenentladungstechnologie höher ist als die der Glimmentladungstechnologie, d Partikel, die im ionischen Zustand ankommen, sind höher als bei der Glimmentladung; (4) Bei der Galvanisierungstechnologie mit dem Entladungsprozess wird dem Werkstück eine negative Vorspannung hinzugefügt, um Metallionen anzuziehen und zum Werkstück zu beschleunigen. Je höher die Ionisierungsrate des Metalls ist, desto mehr energiereiche Ionen erreichen das Werkstück.

IKS PVD-Unternehmen, dekorative Beschichtungsmaschine, Werkzeugbeschichtungsmaschine, DLC-Beschichtungsmaschine, optische Beschichtungsmaschine, PVD-Vakuumbeschichtungslinie, das schlüsselfertige Projekt ist verfügbar. Kontaktieren Sie uns jetzt, E-Mail: iks.pvd@foxmail.com