Typen und Eigenschaften von PVD-Geräten

Typen und Eigenschaften von PVD-Geräten
Entsprechend dem Unterschied im physikalischen Mechanismus während der Abscheidung wird die physikalische Gasphasenabscheidung im Allgemeinen in Vakuumverdampfungsbeschichtungstechnologie, Vakuumsputterbeschichtung, Ionenbeschichtung und Molekularstrahlepitaxie unterteilt. In den letzten Jahren hat die Entwicklung der Dünnschichttechnologie und der Dünnschichtmaterialien bemerkenswerte Fortschritte gemacht. Auf der ursprünglichen Basis gab es die Technologie der ionenstrahlverstärkten Abscheidung, die Technologie der elektrischen Funkenabscheidung, die Technologie der physikalischen Gasphasenabscheidung mit Elektronenstrahlen und die Technologie der Mehrschicht-Jet-Abscheidung.

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