Hochfrequenz-Magnetronsputtern (RF).

Hochfrequenz-Magnetronsputtern (RF).
Eigenschaften des HF-Sputterns – Der Grund, warum die HF-Methode zur Erzeugung eines Sputtereffekts verwendet werden kann, besteht darin, dass sie einen Self-Bias-Effekt auf dem Target erzeugen kann. In HF-Sputtergeräten werden die Durchbruchspannung und die Entladespannung erheblich reduziert. Das Ziel muss kein Dirigent mehr sein.

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