Vakuum-Sputter-Beschichtung
Apr 29, 2024| Vakuum-Sputter-Beschichtung
Das Grundprinzip des Vakuumsputterns besteht darin, eine Argon-Glimmentladung im mit Argon (Ar)-Gas gefüllten Vakuumzustand zu erzeugen, dann Argon (Ar)-Atome zu Argon-Ionen (Ar+) zu ionisieren, das Argon-Ion wird unter der Wirkung der elektrischen Feldkraft beschleunigt, um zu bombardieren Das Kathodentarget besteht aus einem Beschichtungsmaterial. Das Target wird ausgesputtert und auf der Oberfläche des Werkstücks abgeschieden.
Abhängig vom verwendeten Strom kann der Prozess weiter unterteilt werden in DC-Sputtern mittels DC-Glimmentladung, RF-Glimmentladung, RF-Sputtern und Magnetron-Glimmentladung (M), die durch Magnetron-Sputtern verursacht wird.
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