Ultrahochvakuum (UHV)
Nov 18, 2024| Ultrahochvakuum(UHV)
10-1~10-6Pa
10-1~10-8Torr
Gaseigentum
Die geringe Dichte der Gasmoleküle und die sekundären Feinde der Wand führen selten zu einer Verlängerung der Zeit für die Bildung der Oberflächenmonoschicht, und im Gasraum befinden sich nur Atome des Festkörpers selbst und fast keine anderen Atome oder Moleküle .
Auswahl- und Bewerbungsgrundsätze
Oberflächenphysik und Oberflächenchemie werden nach dem Prinzip untersucht, dass die Gasmoleküldichte sehr gering und die Oberflächenkollision sehr selten ist und die Oberflächenbildungszeit sehr lang ist
Bewerbungsumfrage
1. Forschung zur kontrollierten Kernfusion; 2. Herstellung eines Wasserstoff-Molekularspiegels mit Zeitreferenz; 3. Forschung zur Oberflächenphysik und Oberflächenchemie; 4. Simulation der Weltraumumgebung; 5. Betrieb eines großen Synchrotron-Protonenbeschleunigers; 6. Herstellung eines hochpräzisen Gyroskops mit elektromagnetischer Levitation.
IKS PVD-Unternehmen, dekorative Beschichtungsmaschine, Werkzeugbeschichtungsmaschine, DLC-Beschichtungsmaschine, optische Beschichtungsmaschine, PVD-Vakuumbeschichtungslinie, das schlüsselfertige Projekt ist verfügbar. Kontaktieren Sie uns jetzt, E-Mail: iks.pvd@foxmail.com