PVD Beschichtung Glas

Physische Vapor Deposition von Beschichtungen auf Glas, verwendet Sputter Target-Material. Die Anwendung ist vor allem Low-E-Beschichtung (Glas niedrigem Emissionsgrad beschichtet). Das Magnetron Sputtern Prinzip wird verwendet, um sputter-mehrschichtige dünne Schichten auf Glas, um Energie zu erreichen – Einsparung, Beleuchtung, dekorative Rollen. Low-E Glasauch bekannt als energiesparendeGlas. Vor kurzem, als die Nachfrage nach Energieeinsparung, Emissionsreduzierung und Verbesserung des Menschen die Lebensqualität steigt, ist traditionelles Gebäude Glas allmählich durch Energiespar-Glas ersetzt. Unter den Markt Nachfrage Laufwerke sind an vorhanden, fast alle großen Glas tiefen Verarbeitungsunternehmen die Fertigungslinie für beschichtetes Glas wächst rasant. Dies entspricht, steigt die Nachfrage für die Beschichtung von Target-Material schnell, Hauptsorten Targetmaterialien für Glasbeschichtung sind Ag Ziel, Cr Ziel, Ti Ziel, NiCr Ziel, ZnSn Ziel, SiAl Ziel, TixOy Ziel, usw..

Eine weitere Anwendung beschichtetes Glas istAnAuto Rückspiegel, hauptsächlich Targetmaterial sind Cr Ziel, Al-Ziel, TixOy Ziel. Zusammen mit den Auto Rückspiegel Klasse fordern unaufhörliche Verbesserung, viele Unternehmen aus der original Aluminium Beschichtung Prozess Vakuum Sputter Verchromen Prozess.

(Relevante empfehlen: IKS PVD-Vakuum-Maschine und Ziel Beschichtungsmaterial)

Sputtern

•Sputtering ist die Entfernung des Materials von einem festen Ziel durch energetische Ionenbeschuss.

•The Ionen kommen aus einem magnetisch eingeschlossenen Plasma über die Zieloberfläche erstellt.

•Sputter Abscheidung ist der Prozess der Beschichtung ein Substrat mit dem Material von einem Ziel durch Sputtern entfernt.