Ionenstrahlverstärkte Abscheidung (IBED)

Bei der ionenstrahlverstärkten Deposition (IBED) handelt es sich um eine neue Oberflächenmodifikationstechnologie, die Ionenimplantation mit Dünnschichtabscheidung kombiniert. Es bezieht sich auf die Bildung einer elementaren oder zusammengesetzten Filmschicht durch die Beschussmischung des Ionenstrahls mit einer bestimmten Energie gleichzeitig mit der Dampfabscheidungsbeschichtung. Sie behält nicht nur die Vorteile der Ionenimplantation bei, sondern kann auch bei geringer Beschussenergie kontinuierlich Filme beliebiger Dicke wachsen lassen und Verbundfilme mit dem idealen chemischen Verhältnis bei oder nahe Raumtemperatur synthetisieren (einschließlich des neuen Films, der bei Raumtemperatur nicht erhalten werden kann). und Druck). Die Technologie hat die Vorteile einer niedrigen Prozesstemperatur (< 200℃), a strong binding force for all substrates, a high-temperature phase, metastable phase, an amorphous alloy can be obtained at room temperature, easy control of the chemical composition, easy to-control of the growth process and so on. The main disadvantage is that the ion beam is direct, so it is difficult to deal with the complex shape of the surface.

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