DC-Magnetron-Sputterbeschichtung

DC-Magnetron-Sputterbeschichtung
Die Magnetron-Sputterbeschichtungsvorrichtung fügt ein Magnetfeld auf dem DC-Sputterkathodenziel hinzu und nutzt die Lorentzkraft des Magnetfeldes, um die Spur der Elektronen im elektrischen Feld zu binden und zu verlängern, wodurch die Wahrscheinlichkeit einer Kollision zwischen Elektronen und Gasatomen und der Ionisation von Gasatomen erhöht wird, wodurch die hochenergetischen Ionen, die das Ziel bombardieren, erhöht und die hochenergetischen Elektronen, die das Beschichtungssubstrat bombardieren, reduziert werden.

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