Keramische Metallisierungsbeschichtungsmaschine
NdFeB (Neodym Eisen Bor) Keramik-Chip / Spalte Oberfläche metallisierte Beschichtungsmaschine, nehmen Magnetron Sputter-Prozess auf dem NdFeB (Neodym-Eisen-Bor) Chip / Spalte Oberfläche, um Tb (Terbium) Metall-Film oder Dy (Dysprosium) Metallfilm abzuscheiden und zu verbessern die Leistung der magnetischen Keramik durch Diffusionsbehandlung.
- Produkteinführung
IKS-HM Horizontale mobile Kathoden-Beschichtungsanlage
l Ausrüstungsname
IKS-HM NdFeB (Neodym-Eisen-Bor) Keramik-Chip / Säulenoberfläche metallisierte Beschichtungsmaschine
l Ausrüstung Anwendung
NdFeB (Neodym Eisen Bor) Keramik-Chip / Spalte Oberfläche metallisierte Beschichtungsmaschine, nehmen Magnetron Sputter-Prozess auf dem NdFeB (Neodym-Eisen-Bor) Chip / Spalte Oberfläche, um Tb (Terbium) Metall-Film oder Dy (Dysprosium) Metallfilm abzuscheiden und zu verbessern die Leistung der magnetischen Keramik durch Diffusionsbehandlung.
l Fertigungslinie Design
IKS-HM Coating-Maschine realisiert die Massencharge Produktion von kleinen Keramik-Spalte Metallisierung Beschichtungsfilm, kann es produzieren 40.000 Stück pro Tag. Geeignet für die Beschichtung der Metallfunktionsschicht auf der Oberfläche der magnetischen NdFeB-Keramiksäule, wie die oberflächenmodifizierte Dünnschicht aus Sputtern Tb, Dy und Al, etc. Es ist vollautomatisches Design, kontinuierliche Batch-Produktion, hohe Produktionseffizienz, hohe Sauberkeit, gute Zuverlässigkeit .
l Technische Eigenschaften
1. Die Oberfläche von Keramikzylinder und Keramikfolie kann beschichtet werden
2. Produktionslinien reduzieren die Schäden für die Umwelt und den menschlichen Körper
3. Kontrollieren Sie die Menge an Dysprosium und Terbium genau, sparen Sie die Verwendung seltener Materialien und verbessern Sie die Nutzungsrate
4. Erhöhen Sie die Tiefe von osmotischem Dysprosium und osmotischem Terbium, verbessern Sie die Leistung
5. Standardisierter und modularer Aufbau, das Prozessmodul kann teilweise verbessert werden und justiert entsprechend dem tatsächlichen Produktionsnachfrage. Um den Prozess und das Produkt zu verbessern, ist es einfach und kostengünstig.
l Technische Parameter
1. Installation Dimension: W800 × L2600 × H2200mm | 7. Sputtern: DC-Magnetron-Sputtern |
2. Chamber Größe: W1250 × L1400 × H700mm | 8. Ablagerungsrate: <0,5 um="" zeit,="" 3-6="" minuten=""> |
3.Loading Halter: W950 × L750mm | 9. Design: Vakuumkammer und Prozess modularisiert |
4. Target Material: planer ziel W125 × L750mm | 10.Prozess: Durchflussmesser und Ventilsteuerprozessgas |
5.Coated Werkstück: 5- 5- 15 15mm Keramik Spalte und 2-10mm Dicke Keramik-Chip | 11.Power Quelle: 220V 50Hz |
6. vakuum rang: ATM-6 × 10-4Pa | 12. Externer Anschlussflansch: KF16 und KF25 |
13. Vacuum System: Drehkolbenpumpe, Wurzelpumpe und Molekularpumpe | |
l Gerätestruktur Einführung
Die Ausrüstung besteht aus der Vakuumkammer , der Vakuumpumpengruppe , dem Ladengestell , der Kathode, der Vakuummessung und dem Prozessgaskontrollsystem.
( 1 ) Kammer von hereinkommenden und herausgehenden Substrathaltern
Die Vakuumkammer, Größe ist W1250 × L1400 × H700mm. Die Stärke des Kammerbrettes ist 20mm, die Außenseite, die abkühlt, ausgerüstet mit Beobachtungsfenster. Vakuumsystem: bestehen aus 1pc TRP60 Rotationspumpe, 1pc FF250 / 2200 Molekularpumpe. Mit Luft verschlossen, verwendet das unabhängige Klappenventil, einfache und effektive Aktion. Es ist weniger als 60 Sekunden, um 8 Pa Vakuumgrad zu erreichen.
( 2 ) Vorderer Einlass-Substrathalter
Es ist W1250 × L1200mm, die höhe von einlass substrat halter ist 1200mm, einfach zu bedienung, installiert vollautomatische einlass substrat, beschichtung taste, und notfall plötzlich stoppen taste. Adoptiertes Total Seal Design, 2 Stk. Reinigungsfilter für Luftzufuhr (FFU), um die Reinigung des Beschichtungssubstrats zu gewährleisten.
( 3 ) Sputter-Beschichtungs-Verfahrenssystem
Das Sputter-Beschichtungs-Prozesssystem bestand aus einer entfernbaren Kathode und einer DC-Sputter-Energiequelle. Die Größe des Kathodenziels ist W125 × L950mm, angenommene Energiequelle ist 10KW Gleichstromquelle, die in China hergestellt wird. Prozessgasversorgungssystem verwenden 2 Stück Durchflussmesser und Vakuummeter, um den Vakuumgrad zu kontrollieren. Es gibt zwei Arten der Werkstückhalterwanne für Alternative, eine ist Selbstdrehungswanne für keramische Spalte, eine ist keramische Spanwanne. Beide von ihnen konnten automatisches Zufuhrfach und automatischen Beschichtungsvorgang. Die Ablagerungsdicke der Beschichtung kontrolliert und zählt durch die Akkumulation von Beschichtungsfrequenzen und Sputterleistung, sie kann präzise auf 0,5 nm gesteuert werden.
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