das Grundprinzip der Sputterbeschichtung
Apr 02, 2020| Das Grundprinzip der Sputterbeschichtung: Unter Vakuumbedingungen von Argon (Ar) -Gas, Argongas-Glimmentladung, dann zu Argonion (Ar) ionisierten Argon (Ar) -Atomen, Argonion bei Einwirkung elektrischer Feldkraft, beschleunigter Beschuss auf Wenn das Kathodenzielmaterial aus dem Beschichtungsmaterial besteht, wird das Zielmaterial herausgesputtert und auf der Oberfläche des Werkstücks abgelagert. Die in den Sputterfilm einfallenden Ionen werden im Allgemeinen durch Glimmentladung im Bereich von 10-2 Pa ~ 10 Pa erhalten, so dass die Sputterpartikel leicht mit den Gasmolekülen in der Vakuumkammer kollidieren können, wenn sie in Richtung der Matrix fliegen, wodurch die Bewegungsrichtung zufällig wird und der abgeschiedene Film ist leicht gleichmäßig zu sein.
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